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Hellma比色皿105.200-QS納米級表面處理

描述:Hellma比色皿105.200-QS納米級表面處理
納米級表面處理
比色皿的光學面經納米拋光處理,表面粗糙度(Ra)≤0.001mm,較行業標準(Ra≤0.005mm)提升5倍。
這種超光滑表面可減少光散射損失,使吸光度測量重復性(RSD)≤0.1%。
在熒光檢測中,表面平整度優化使激發光與發射光的耦合效率提升20%,顯著提高信噪比。

  • 產品廠地:北京市
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-10-11
  • 訪問量:93
產品介紹/ PRODUCT PRESENTATION
品牌其他品牌應用領域化工,生物產業,能源,航空航天,制藥/生物制藥

Hellma比色皿105.200-QS納米級表面處理

納米級表面處理

比色皿的光學面經納米拋光處理,表面粗糙度(Ra)≤0.001mm,較行業標準(Ra≤0.005mm)提升5倍。

這種超光滑表面可減少光散射損失,使吸光度測量重復性(RSD)≤0.1%。

在熒光檢測中,表面平整度優化使激發光與發射光的耦合效率提升20%,顯著提高信噪比。

Hellma型號

105.200-QS

104-QS

115 QS

176.754-QS

108B-QS

104.002-QS

100-QS

耐腐蝕性涂層技術

針對強酸強堿環境,Hellma開發了SiO?-TiO?復合涂層,通過溶膠-凝膠法在石英表面形成致密氧化膜。

該涂層可耐受pH 0-14的環境,在10%氫氟酸中浸泡72小時后,質量損失率<0.01%。

在制藥行業,此特性使其成為藥物溶出度測試的理想選擇,避免玻璃材質因堿液侵蝕導致的金屬離子析出。

制造工藝:精密工程與質量控制的雙重保障

五軸聯動CNC加工

比色皿主體采用五軸聯動數控機床加工,光程精度控制在±0.01mm以內,平行度<0.002mm。

這種精度水平確保了在不同波長下,光程偏差對吸光度的影響<0.001Abs,滿足ISO 8655標準對微量分析的要求。

真空退火應力消除

加工后的比色皿需在10?3Pa真空環境中進行48小時退火處理,消除機械加工產生的殘余應力。

該工藝使比色皿在-40℃至+150℃溫變范圍內,形變量<0.005mm,避免熱脹冷縮導致的光路偏移。

在線光譜驗證系統

每只比色皿在出廠前需通過Hellma自主研發的SpectroCheck™系統檢測。

該系統集成氘燈、鎢燈雙光源,可實時監測200-2500nm范圍內的透光率曲線,自動剔除透光率波動>0.5%的個體,確保批次一致性沈陽漢達森yyds吳亞男。

Hellma比色皿105.200-QS納米級表面處理


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